En Rusia desarrollan un material para pulir obleas en la fabricación de chips
Científicos de la Universidad Estatal de Nizhni Nóvgorod Lobachevski patentaron un método de purificación profunda del nanopolvo de dióxido de silicio, usado en suspensiones de pulido para microchips. La técnica permite controlar el tamaño, la forma y la uniformidad de las partículas, y reducir impurezas. La línea tecnológica y el reglamento de producción ya están preparados, y la suspensión se ha enviado a un socio industrial para pruebas. El trabajo se desarrolla desde 2024 dentro del proyecto «Nuevos materiales para microelectrónica» del programa federal Prioridad-2030, y ahora se centra en la estabilidad al escalar la producción.
Qué significa
El material sirve para el pulido químico-mecánico de obleas semiconductoras, donde la calidad de las nanopartículas afecta al acabado de la superficie y a los componentes electrónicos finales.
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