Intel apuesta por la fotónica de silicio y se atribuye la producción de fosfuro de indio de 300 mm
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En la cumbre OCP 2026, Intel presentó su hoja de ruta de fotónica de silicio para centros de datos de IA y computación de alto rendimiento. Según la compañía, es la única capaz de producir en serie fosfuro de indio (InP) de 300 mm, material que genera la luz láser que se integra en la plataforma. Intel sostiene que esta tecnología resuelve tres límites del cobre: distancia, densidad de ancho de banda en el encapsulado y energía por bit. Su objetivo es bajar de 5 pJ por bit, umbral que la industria considera clave para comercializar la tecnología, aunque no ha publicado un calendario de producción.
Qué significa
Si los enlaces ópticos reemplazan al cobre en los centros de datos de IA, la capacidad de fabricar láseres de fosfuro de indio en 300 mm se vuelve una ventaja competitiva, y Intel dice ser la única con esa capacidad.
Cómo te afecta
- Fotónica
Con láseres o sustratos de InP en tu catálogo, no muevas plazos por este anuncio: Intel no ha publicado calendario de producción. Vigila si tus clientes de transceptores empiezan a exigir el umbral de 5 pJ por bit.
Fuentes originales
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